Exposure Bias Can Alleviate Itself via Directional and Frequency Rectification in Flow Matching
暴露偏差可以通过流匹配中的方向和频率校正自我缓解
机构 * Tsinghua Shenzhen International Graduate School, Tsinghua University(清华大学深圳国际研究生院) ; Central Media Technology Institute, Huawei(华为中央媒体技术研究院)
AI总结 提出DEFAR框架,利用暴露偏差自身的方向和频率自适应信号进行校正,通过抗漂移校正和频率补偿增强模型鲁棒性,在多个数据集上优于现有方法。
Comments arXiv admin note: text overlap with arXiv:2512.04904