LDU-Bench: Multimodal LLM Evaluation for Lithography Defect Understanding under Layout-Varying Circuit Backgrounds
LDU-Bench:面向不同布局电路背景下光刻缺陷理解的多模态大语言模型评估基准
专题命中 多模态评测 :multimodal(title,abstract);MLLM(summary_cn);分类 cs.CV
AI总结 本文提出LDU-Bench这一多模态基准,将光刻审查工作流程分解为四项任务,评估发现现有多模态大语言模型的缺陷分类能力无法稳定迁移至下游审查阶段,为工业MLLM评估提供了统一平台。
Comments 12 pages, 3 figures, and 5 tables, including appendices